国家知识产权局信息显示,开平依利安达电子第五有限公司取得一项名为“一种PCB内层酸性蚀刻提铜再生装置”的专利,授权公告号CN223951123U,申请日期为2025年2月。
专利摘要显示,本实用新型涉及一种再生装置,尤其涉及一种PCB内层酸性蚀刻提铜再生装置,包括有蚀刻机,蚀刻机顶部设置有再生液回流管,再生液回流管与蚀刻机连通,蚀刻机通过蚀刻废液管连接有废液存储机构,蚀刻废液管上安装有水泵,废液存储机构通过进液管连接有电解池,电解池远离废液存储机构的一端通过出液管连接有回收存储机构,回收存储机构连接有药罐,药罐与回收存储机构和再生液回流管连通,电解池内部活动连接有电极板。本实用新型依靠电解反应将蚀刻废液中的金属铜析出并收集,同时通过滤框将脱落的铜屑和悬浮早溶液中的铜屑收集,有效提高了装置对金属铜的回收效率,避免碎屑影响后续工作的顺利进行,保证工作质量。
天眼查资料显示,开平依利安达电子第五有限公司,成立于2002年,位于江门市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本6167.51万美元。通过天眼查大数据分析,开平依利安达电子第五有限公司参与招投标项目2次,专利信息44条,此外企业还拥有行政许可19个。
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